去年12月,酷派回归中国市场的又一大作——酷派COOL 20 Pro正式发布,凭借120Hz高刷、对称式立体声双扬声器,该机受到诸多消费者好评。今
1月10日消息,据媒体报道,本月3日,光刻机制造商阿斯麦位于德国柏林的一座工厂发生火灾,大火在当晚被扑灭,没有人员在火灾中受伤,阿斯麦
这一年多来,全球半导体产能紧张,台积电等芯片制造公司也在积极扩大产能,光刻机之类的设备很抢手,在这个关键时刻,全球光刻机一哥ASML的
最近5nm刻蚀机被炒的很火,网上铺天盖地的消息都在说,中国芯片已经实现弯道超车,我国芯片将自给自足,不用担心被卡脖子的问题了。其实这种说
按照业内预判,2025年前后半导体在微缩层面将进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 = 0 1纳米),其中2025对应A14(14Å=1 4纳米)。除了新晶体管
在上月的ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布的蓝图显示,2025年后晶体管进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 = 0 1纳
这一年来半导体行业产能紧张,芯片涨价,上游的晶圆厂也不得不提升产能,光刻机是最关键的生产设备之一了。很多人只关注到了ASML的EUV光刻
芯片行业一直是困扰全球的“卡脖子”领域,而其中核心的光刻机技术被几家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片领域有长足的进步,光刻机这种核心设
据外媒最新报道称,ASML已经开始制造新一代极紫外(EUV)光刻机,其每台造价达到了1 5亿美元,约合人民币近97亿元。据悉,在位于美国康涅狄格
据ASML官方介绍,ASML一直在追求光刻机极致的速度,目前最先进的DUV光刻机,每小时可以完成300片晶圆的光刻生产。也就是说,完成一整片晶圆
国内厂商彤程新材宣布自筹7亿元研发ArF高端光刻胶,项目预计于2023年末建设完成。芯研所消息,国内厂商彤程新材宣布自筹7亿元研发ArF高端光
根据外媒 TheElec 消息,根据研究机构 Yole Development 报告由于 CMOS 传感器和电源管理 IC 的需求增加,制造这类芯片的光刻设备
Intel这几年在工艺进度上落后跟10nm、7nm工艺多次跳票有关,而新工艺延期也跟Intel此前不考虑EUV工艺有关,所以10nm工艺才上了四重曝光,导
据韩国媒体报道,三星正致力于推动光刻胶供应多元化的实现,计划在今年之内引入Inpria的无机光刻胶,目前已经完成评估,有望应用于5nm超精
作为全球第一光刻机供应商,荷兰ASML(阿斯麦)公布了2021年第二季度财报。当季,ASML净销售额40亿欧元,毛利率50 9%,净收入10亿欧元,净预
芯研所:SK海力士启用EUV光刻机 10nm工艺DRAM产品开始量产,内存竞争悄然打响。SK海力士官方给出消息称,开始启用EUV光刻机闪存内存芯片。
据外媒报道,美光科技CEO兼总裁桑杰·梅赫罗特拉(Sanjay Mehrotra)在2021财年第三财季的财报分析师电话会议上透露,公司将引进极紫外光刻
iQOO 7有黑境、潜蓝和传奇版三款配色,在质感和风格上略有差异。其中黑境款更是获得了2021年红点设计大奖。iQOO 7的黑境款独具的光刻透镜
据外媒消息,为摆脱日本企业的垄断和封锁,三星SDI为其研究中心的光刻胶开发引入了8英寸晶圆光刻和涂胶显影设备。芯研所整理报道,在半导体
腾彩PIXMAG680和G580应用了源自佳能先进的半导体制造技术的FINE全程光刻喷墨喷嘴技术,这一打印技术能够带来更真实的色彩再现、更鲜明的对