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ASML将为光刻机提供新型EUV防护膜 透光率高达九成可减小损耗

目前最前沿的手机、电脑芯片多使用 EUV 极紫外光进行刻蚀，但是这种光线难以被反射和折射，制造过程中损耗率非常大。根据外媒 TheElec

IT之家 2021-05-17 15:09:34

数据动态

ASML今年将为光刻机提供新型EUV防护膜 透光率可达90.6%

目前最前沿的手机、电脑芯片多使用 EUV 极紫外光进行刻蚀，但是这种光线难以被反射和折射，制造过程中损耗率非常大。根据外媒 TheElec

IT之家 2021-05-17 10:57:06