1月10日消息,据媒体报道,本月3日,光刻机制造商阿斯麦位于德国柏林的一座工厂发生火灾,大火在当晚被扑灭,没有人员在火灾中受伤,阿斯麦
按照业内预判,2025年前后半导体在微缩层面将进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 = 0 1纳米),其中2025对应A14(14Å=1 4纳米)。除了新晶体管
在上月的ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布的蓝图显示,2025年后晶体管进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 = 0 1纳
近日,有报道称,通用汽车宣布将于2022年1月24日全面恢复雪佛兰Bolt EV EUV两款车型的生产工作,新车采用全新的电池,彻底解决电池起火导
芯片行业一直是困扰全球的“卡脖子”领域,而其中核心的光刻机技术被几家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片领域有长足的进步,光刻机这种核心设
10月12日消息,今日,三星官方宣布已开始量产基于极紫外光(EUV)技术的14nm DRAM。三星表示,继去年3月推出首款EUV DRAM后,又将EUV层数增
据外媒最新报道称,ASML已经开始制造新一代极紫外(EUV)光刻机,其每台造价达到了1 5亿美元,约合人民币近97亿元。据悉,在位于美国康涅狄格
三星、SK海力士及美光确定未来会用EUV工艺,而美光的EUV工艺内存在2024年量产。芯研所消息,CPU、GPU为代表的逻辑工艺制程进入7nm之后,EUV
安卓平台手表、手环等智能穿戴设备使用的处理器很多都是高通的骁龙,三星很快也要推出GalaxyWtach 4系列手表,赶在发布前一天正式推出了面
Intel这几年在工艺进度上落后跟10nm、7nm工艺多次跳票有关,而新工艺延期也跟Intel此前不考虑EUV工艺有关,所以10nm工艺才上了四重曝光,导
作为全球第一光刻机供应商,荷兰ASML(阿斯麦)公布了2021年第二季度财报。当季,ASML净销售额40亿欧元,毛利率50 9%,净收入10亿欧元,净预
芯研所:SK海力士启用EUV光刻机 10nm工艺DRAM产品开始量产,内存竞争悄然打响。SK海力士官方给出消息称,开始启用EUV光刻机闪存内存芯片。
目前最前沿的手机、电脑芯片多使用 EUV 极紫外光进行刻蚀,但是这种光线难以被反射和折射,制造过程中损耗率非常大。根据外媒 TheElec
目前最前沿的手机、电脑芯片多使用 EUV 极紫外光进行刻蚀,但是这种光线难以被反射和折射,制造过程中损耗率非常大。根据外媒 TheElec
展锐唐古拉品牌下的两款5G芯片T770和T760,均采用6 nm EUV工艺,为什么要强调EUV?只有引入EUV技术的6nm才是真正的6nm,这项技术也将伴随
据国外媒体报道,三星似乎在半导体竞赛中输给了台积电,在半导体工艺进入 7nm 节点之后,EUV 光刻机成了关键装备,现在只有 ASML 一家
芯片代工商产能普遍紧张,是目前全球多个领域芯片短缺的一个重要因素,为缓解芯片紧缺,部分芯片代工商也已决定新建芯片代工厂,提高产能。
这次也是新任CEO帕特·基辛格当家之后第一次财报发布会,他上任之后宣布了Intel这些年来最重大的一次改变,3月份Intel宣布了全新的IDM 2 0
日前,ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV(极紫外)光刻机的最新进展。ASML现在主力出货的EUV光刻机分别是NXE:3400B和3400C,它
此前有消息称中芯国际已获得部分美国供应许可,主要涵盖成熟工艺用半导体设备等。官方表示,他们会尽最大努力,持续携手全球产业链伙伴,保